技术文章
Technical articles针对光学和介电功能薄膜制备中的离化率低和靶面污染问题,设计了一种磁控溅射沉积系统,系统包括磁控溅射靶装置、等离子体源和阳极清洗装置。主要结论有:(1)在磁控溅射靶装置设计中,采用磁流体密封替代橡胶轴承密封,提高了靶装置的密封性,极限真空度可达10-6Pa;采用旋转磁钢代替固定磁钢,使靶材的利用率从30%提高到60%,同时避免了靶装置在预先清洗时的污染;设计了靶装置的驱动端,完成了电机、传动装置和轴承的选型。(2)设计等离子体源来改善沉积系统离化率不足的问题。选择0.2mm钨丝...
集成电路自动化装备-探针台是晶圆测试领域研究的热点。由于晶圆片上晶粒很小,达到微米级,所以要求探针台要保持很高的定位精度和运动精度才能保证探针与晶粒的准确对针和测试。因此,本文主要研究的问题是如何保证探针台高精密控制,从而达到微米级定位要求。本文来自于国家02专项-面向12”晶圆片的全自动探针台关键技术研究。首先,本文介绍了探针台两大部分-LOADER和PROBER的关键结构和运动流程；其次,本文重点对预对位、Z轴升降、XY平台三个关键部件的精准控制进行研究,分析影响控制精度...
红外热成像技术由于自身各种优势在军事领域和民用领域有着广阔的应用前景,因此备受各国重视,竞相发展相关技术。由于国外对红外热成像技术的研究比较早,而我国在红外热成像技术领域起步较晚,所以差距很大。近年来我国在红外热成像技术的相关领域取得了一些进展,但很多方面还是远远落后于世界水平。因此,还需要加快红外热成像技术的研究。本课题以加快红外热成像技术的研究进度、减小研究周期、提升研究效率,降低研究及生产成本为目标,以红外热成像系统的核心部分非制冷红外焦平面为基础,研究红外焦平面封装前...
Q1:什么是PVD?真空电镀加工真空镀膜技术A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。2138cn太阳集团古天乐新研发一款小型蒸镀仪KT-Z1650DM是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃...
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